簡(jiǎn)要描述:加氫反應裝置具備反應系統,加熱系統和控制系統,氣體進(jìn)料系統,液體進(jìn)料系統,反應釜全容積為100毫升,加熱方式為電加熱,在線(xiàn)數據采集記錄保存,采集對象:反應釜內部溫度,加熱爐溫度,反應釜內部壓力,攪拌速度,控制進(jìn)料流量,進(jìn)氣流量。
加氫反應裝置主要參數及技術(shù)說(shuō)明
反應釜結構:間歇式;釜蓋密封形式:O型圈密封;攪拌密封形式:磁耦合密封;反應釜全容積:100ml;反應釜用才(釜體釜蓋):哈氏合金C276;管閥件316L不銹鋼;用戶(hù)操作溫度:200℃;反應釜設計溫度:250℃;用戶(hù)操作壓力:30bar;反應釜最高使用壓力:100bar;加熱方式:電加熱;溫度控制:正負1℃以?xún)龋ㄎ锪蠠o(wú)強放熱吸熱的情況下);攪拌形式:自吸推進(jìn)攪拌
裝置整體包括反應單元、加熱單元和控制單元。
反應單元100ml反應釜釜蓋固定,釜體電動(dòng)升降,釜體電加熱,加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層,上出料,釜蓋配備2個(gè)氣相閥門(mén),1個(gè)液相閥,1個(gè)安全爆破片,1個(gè)機械測壓表,1個(gè)壓力傳感器,1個(gè)溫度傳感器,1個(gè)磁耦合攪拌器,1套氣體質(zhì)量流量計
加熱單元,加熱采用電加熱,加熱爐包裹反應釜體,靠熱傳導輻射給反應釜內部物料加熱,加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層。
控制單元,溫度控制:主控物料溫度,反應釜內物料無(wú)強放熱吸熱情況下可將物料溫控控制在正負1℃
攪拌控制:磁耦合攪拌轉速控制范圍200~1000r/min,攪拌轉速控制誤差0~5r/min。升降控制:可控制加熱爐和反應釜釜體勻速上升下降,上下設有光電開(kāi)關(guān),防止上升下降過(guò)多
數據采集和保存:反應數據可采集記錄保存,包括反應溫度,加熱爐溫度,反應壓力,攪拌轉速,可在線(xiàn)設定加熱時(shí)間,攪拌時(shí)間
加氫反應裝置
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